정준재
개요
정준재(鄭準在, 1965년 ~ )는 대한민국의 공학자이자 교육자로, 반도체 및 디스플레이 공정 기술 분야에서 세계적인 연구 성과를 낸 인물이다. 서울대학교 전기공학부 교수로 재직하며 차세대 반도체 소자 및 공정 기술 개발에 기여했으며, 특히 극자외선(EUV) 리소그래피와 박막 트랜지스터(TFT) 분야에서 다수의 국제 학술지 논문과 특허를 보유하고 있다. 그의 연구는 반도체 미세화 공정의 한계를 극복하고 디스플레이 산업의 혁신을 이끄는 데 중요한 역할을 했다.
주요 내용
학력 및 초기 경력
정준재는 1988년 서울대학교 전기공학과를 졸업하고, 1990년 동 대학원에서 석사 학위를 취득했다. 이후 미국 스탠퍼드 대학교에서 전기공학 박사 학위(1995년)를 받았으며, 박사 과정에서는 차세대 반도체 리소그래피 기술에 관한 연구로 주목받았다. 박사 학위 취득 후, 1996년부터 2000년까지 미국 IBM T.J. Watson 연구소에서 연구원으로 재직하며 반도체 공정 기술 개발에 참여했다.
학술 및 연구 활동
2001년부터 서울대학교 전기정보공학부 교수로 재직하며, 반도체 및 디스플레이 공정 연구실을 이끌고 있다. 주요 연구 분야는 극자외선(EUV) 리소그래피, 나노임프린트 리소그래피, 박막 트랜지스터(TFT) 제조 공정, 유기 반도체 소자 등이다. 그는 특히 EUV 리소그래피용 포토레지스트(PR) 소재 개발과 공정 최적화 분야에서 세계적인 권위자로 인정받고 있으며, 2010년대 초반부터는 차세대 디스플레이 기술인 마이크로 LED 및 OLED 공정 기술 연구에도 적극 참여했다.
정준재는 국제 학술지에 200편 이상의 논문을 발표했으며, 50건 이상의 국내외 특허를 보유하고 있다. 대표적인 연구 성과로는 '고해상도 EUV 리소그래피를 위한 신규 포토레지스트 개발'과 '플렉서블 디스플레이용 저온 폴리실리콘(LTPS) TFT 공정 기술'이 꼽힌다. 또한, 2015년에는 반도체 공정 기술 발전에 기여한 공로로 한국공학한림원 젊은공학자상을 수상했다.
산학협력 및 기술 이전
정준재는 학계에 머무르지 않고, 삼성전자, LG디스플레이, SK하이닉스 등 국내 주요 반도체·디스플레이 기업과의 산학협력 프로젝트를 활발히 진행했다. 2018년에는 그가 개발한 EUV 리소그래피용 포토레지스트 기술을 국내 중소기업에 이전하여 상용화에 성공했으며, 이는 국내 반도체 소재 국산화에 기여한 사례로 평가받는다. 또한, 2020년부터는 정부 주관 '차세대 반도체 공정 기술 개발 사업'의 총괄 책임자를 맡아 연구 방향을 제시하고 있다.
교육 및 후학 양성
정준재는 교육자로서도 뛰어난 평가를 받고 있다. 서울대학교에서 '반도체 공정', '디스플레이 공학', '나노소자 제조' 등의 과목을 강의하며, 학생들에게 실무 중심의 교육을 제공한다. 특히, 그의 연구실에서 배출된 박사 및 석사 졸업생들은 국내외 반도체·디스플레이 기업과 연구소에서 핵심 연구원으로 활동하고 있다. 2022년에는 교육부 우수교수상을 수상했다.
최신 동향
2024년 기준, 정준재는 차세대 반도체 공정 기술인 '고나노미터(High-NA) EUV 리소그래피'와 '게이트올어라운드(GAA) 트랜지스터' 공정 연구에 집중하고 있다. 특히, 2025년에는 그의 연구팀이 개발한 새로운 나노임프린트 리소그래피 기술이 국제 학술지 '네이처 나노테크놀로지'에 게재되어 주목받았다. 이 기술은 기존 EUV 리소그래피의 한계를 보완할 수 있는 차세대 패터닝 기술로 평가되며, 반도체 미세화 공정의 새로운 가능성을 열었다. 또한, 그는 2024년부터 한국반도체학회 부회장을 맡아 학계와 산업계의 교류를 촉진하고 있으며, 2025년에는 '반도체 공정 기술 로드맵' 발간을 주도했다.
관련 주제
- [[반도체 공정]]
- [[EUV 리소그래피]]
- [[디스플레이 기술]]
- [[서울대학교 전기정보공학부]]
- [[나노임프린트 리소그래피]]
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