郑准在
概述
郑准在（정준재，1965年~）是韩国的工程师兼教育家，在半导体及显示器工艺技术领域取得了世界级的研究成果。他曾任首尔大学电气工程系教授，为新一代半导体元件及工艺技术开发做出了贡献，尤其在极紫外（EUV）光刻和薄膜晶体管（TFT）领域拥有多篇国际学术期刊论文和专利。他的研究在克服半导体微细化工艺的极限、引领显示器产业创新方面发挥了重要作用。
主要内容
学历及早期经历
郑准在于1988年毕业于首尔大学电气工程系，1990年在同校研究生院获得硕士学位。之后在美国斯坦福大学获得电气工程博士学位（1995年），博士期间因研究新一代半导体光刻技术而备受关注。获得博士学位后，1996年至2000年在美国IBM T.J. Watson研究所担任研究员，参与半导体工艺技术开发。
学术及研究活动
自2001年起，郑准在担任首尔大学电气信息工程系教授，领导半导体及显示器工艺研究室。主要研究领域包括极紫外（EUV）光刻、纳米压印光刻、薄膜晶体管（TFT）制造工艺、有机半导体器件等。他尤其在EUV光刻用光刻胶（PR）材料开发及工艺优化领域被公认为世界权威，2010年代初开始也积极参与新一代显示器技术如Micro LED和OLED工艺技术的研究。
郑准在在国际学术期刊上发表了200多篇论文，拥有50多项国内外专利。代表性研究成果包括“用于高分辨率EUV光刻的新型光刻胶开发”和“用于柔性显示器的低温多晶硅（LTPS）TFT工艺技术”。此外，2015年他因对半导体工艺技术发展的贡献获得了韩国工学翰林院青年工程师奖。
产学研合作及技术转让
郑准在并未局限于学术界，而是与三星电子、LG Display、SK海力士等韩国主要半导体·显示器企业积极开展产学研合作项目。2018年，他开发的EUV光刻用光刻胶技术成功转让给国内中小企业并实现商业化，这被视为对国内半导体材料国产化做出贡献的案例。此外，自2020年起，他担任政府主导的“新一代半导体工艺技术开发项目”的总负责人，指导研究方向。
教育及人才培养
郑准在作为教育者也获得了高度评价。他在首尔大学讲授“半导体工艺”、“显示器工程”、“纳米器件制造”等课程，为学生提供以实践为中心的教育。特别是，他的研究室培养的博士及硕士毕业生在国内外半导体·显示器企业和研究所担任核心研究员。2022年，他获得了教育部优秀教授奖。
最新动向
截至2024年，郑准在专注于新一代半导体工艺技术，即“高数值孔径（High-NA）EUV光刻”和“全环绕栅极（GAA）晶体管”工艺的研究。特别是，2025年他的研究团队开发的新型纳米压印光刻技术在国际学术期刊《自然·纳米技术》上发表，备受关注。该技术被评价为能够弥补现有EUV光刻局限性的新一代图案化技术，为半导体微细化工艺开辟了新的可能性。此外，他自2024年起担任韩国半导体学会副会长，促进学术界与产业界的交流，并于2025年主导了《半导体工艺技术路线图》的发布。
相关主题
- [[半导体工艺]]
- [[EUV光刻]]
- [[显示器技术]]
- [[首尔大学电气信息工程系]]
- [[纳米压印光刻]]
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